第91章 芯片与光刻(1 / 2)

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芯片国人长以来的,且难解决。

当然,个解决是高端芯片,米制程3-20纳米这区间,20纳米上的,本已被克,问并不是大。

有3-20纳米个区间,每缩小个等级,所需要光刻机及工艺程的难就高了个量级,甚至有如登天说法。

不知道少国外技术大断言,怕是给内图纸,国内也造不出

这种东西,就跟子弹一,设计理很简,但真去做可千难万,根本决不了料、设、工艺等问题。在某种度上,片比原弹还要难度,子弹是能爆炸行,大不是太要,芯却是越越好,往电子级去了。

但无是设备、原材料、辅料这,国内存在很短板,至一片白。

此情况,要想造一块端芯片确是有走蜀道,难如登

公司在片的设上,经几十年持续投,如今经可以是独步下了,以和世顶尖的酱一较下。

而,制商一卡,中正公自己设的芯片全没有用武之,找不地方生,这就得中正司不得自己搞,和国内多厂商同探讨案。

周飞宇己看到新闻,不时的有爆料中正公搞出了个突破、搞出了个创新。

嗯,片设计也是被正公司出了花

、重叠等方案,刚开始新闻发会上宣,被许喷子狂,但随不久某就跟了来,喷们立即表示某才是真的技术司、才真正的出好的片。周宇表示:你们这人真他的是个才,没三四十的脑血想不出么双标说辞。

“……们注意,周总发的这FY-02聚酰胺材料,性能非优异,超国外丰化学、王者材生产的品。所我们就,以周的聪明智,是是可以光敏型酰亚胺向上做研发,前我们重叠芯,尽管试样成,但良极低,线路精度不到。了设备度之外,光刻胶是很重的一个因……”

随后会议上,余龙光周飞宇起了中公司的些情况,聊起了刻胶的情。

正公司部的机,余龙肯定是能透露,说的是一些说的,者是他外界还公布的些细节。

这时,会议室除了中公司的和周飞,其它都被清出去了。

按余光的说,为了密,请飞宇理一下。

“光敏的聚酰胺材料?”

宇心中动,脑里立即现出有“中级膜技术”中针对薄、特性能的膜的一相关知

,的确到可用光刻胶一些光型聚酰胺材料。

光刻,顾名义,用光刻的种胶。

所谓光,字面思就是光去雕

,自然的光,及各种紫外线,是无法接像一刀一样雕刻东西的,只那种具超高能的激光类,才用于直雕刻。

在芯片域的光,是利某些具对光线常敏感性的胶,均匀涂在晶圆,然后在胶的面贴付层薄膜,这层薄被设计需要的路图案。光线从路图案穿过,射到胶表面,因为对线敏感是发生应,显出和电图案相或相反电路图来,那没有被线照射的地方,自然还被胶覆着。

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